nsize="3">VCF系列真空碳化炉，是指工件加热在真空室内进行，主要用于要求质量高的产品和易氧化材料的无氧处理，该设备主要用于碳-碳、单晶硅、多晶硅半导体等材料。基本原理是在真空室内设有电阻加热器用于产品加热，产品置于内炉胆内，先将室内抽成真空状态，布置的充气管路随工艺设定的工艺，随程序充入适量氮气执行碳化过程。设备的基本特点：设备具备全自动控制、监控、跟踪等功能，其配套的元件能够适应长期、稳定、安全、可靠的生产需求。设备的使用、操作、维修保养便捷。
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nsize="3">设备规格：
| nsize="3">规格（宽X高X长）mm | nsize="3">承载量kg |
| nsize="3">400400600 | nsize="3">300 |
| nsize="3">500500700 | nsize="3">500 |
| nsize="3">600600900 | nsize="3">700 |
| nsize="3">7007001000 | nsize="3">900 |
| nsize="3">8008001200 | nsize="3">1000 |
| nsize="3">9009001500 | nsize="3">1200 |
| nsize="3">100010001800 | nsize="3">1500 |
