该产品采用国际先进制造工艺，造型新颖结构合理；
目前已被各种试样实验多次验证，并已广泛用于半导体器件研发及生产等领域；
该系统主要用于：
1.可满足离子注入后的快速退火；
2.也可用于欧姆接触快速合金；
3.还可用于硅化物合金退火，氧化物生长；
4.以及铜铟镓硒光伏应用中的硒沉积等快速热处理工艺场合。
该设备是国家专利保护产品，专利号：CN201310005931.6
RTP快速退火炉主要技术参数
1 | 项 目 | 主要技术指标 | 数据 |
2 | 规格型号 | NBD-HR1200-110IT |
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3 | 温度控制 | 温度点（MAx） | 1200℃ |
4 | 额定温度 | 1100℃ |
5 | 稳定状态温度范围 | 100～1000℃ |
6 | 温度测量精度 | ±0.2℃ |
7 | 温度控制重复性 | ±1℃ |
8 | 温度控制**度 | ±1℃ |
9 | 温场均匀性 | ±2℃ |
10 | 温度状态工艺时间（S） | 2～100（100～1000℃） |
11 | 最快升温速率 | 500℃/S |
12 | 降温速率（℃/S） | 1～200（通氮气，速率更快） |
13 | 温度控制模式 | 智能模糊全闭环控制 |
14 | 软件功能 | 操控系统 | NBD-101智能系统 |
15 | 用户界面 | 中英文互换 |
16 | 工艺菜单编辑 | 触屏式图像操作界面 |
17 | 扩充端口 | 可扩充真空测控和FFC供气 |
18 | 看门狗 | 系统进入死循环时关闭主控制器 |
19 | 热电偶校准状态检测 | 软件校准，方便准确，软件分析传感器状态是否正常 |
20 | 超高温状态检测 | 软件检测出温度信息出现高温异常时，切断主回路 |
21 |
| 触摸屏尺寸 | 7"LCD |
22 | 物理指标 | **功率 | 15kw |
23 | 额定电压 | 单相AC380～400V，50Hz（60Hz定制） |
24 | 传感器类型 | S型单铂铑 |
25 | 反应腔室内径尺寸 | Φ100200mm |
26 | 式样有效空间 | 3.5" |
27 | 真空度 | 4.3×10Pa(外配分子泵） |
28 | 抽气端口尺寸 | KF16（或Φ8mm宝塔嘴） |
29 | 供气口尺寸 | Φ6.35mm双卡套 |
30 | 冷却方式 | 自然冷却或强迫风冷N2或压缩空气：2psi(0.14kg/cm2) – 7psi(0.5kg/cm2) |
31 | 外形净尺寸（mm） | 长920×深500×高560 |
32 | 重量 | 约40Kg |
