用化学还原法使聚合物表面金属化,是一种聚合物表面处理的新技术。表面被金属化的聚合物可以呈现出金属的某些性质,如导电性、有光泽性等[1]。近年来,已有许多文献介绍了用化学还原法使聚合物(如聚丙烯脂、尼龙4、聚乙烯醇)表面金属化(如铜膜化、镍膜化、钻膜化、银膜化)的研究结果[2-6],但尚未见到对尼龙6表面金属(Ni)化膜材料制备及性能研究的报导。本文介绍了尼龙6表面金属(Ni)化膜材料的制备过程,研究了这种材料的电性能、电发热性能,并用光电子能谱和扫描电子显微镜对其表面及形貌进行了表征,得到了一些有意义的实验结果。
1 实验部分
1.1 实验用原材料
尼龙6,黑龙江省化工研究所试验厂产品;甲酸,化学纯;正丙醇,分析纯;硼氢化钠(NaBH4),进口分装,分析纯;氯化镍(NiCl2·6H2O)分析纯。以上试剂均未进一步纯化。
1.2 膜材料制备方法
(1)取5g尼龙6溶解于40mL甲酸和10mL正丙醇中,待完全溶解后加入定量的氯化镍,在室温下搅拌24h后,用流延法浇铸在玻璃板上,80℃常压干燥后得到NiCl2/尼龙6络合基膜,膜厚约为80—90μm。
(2)在一定温度下,将NiCl2/尼龙6络合基膜浸入一定浓度的NaBH4水溶液中,几分钟后Ni2+被还原为金属镍,在尼龙6表面生成有金属光泽的镍层,经水洗、干燥后制得尼龙6表面金属(Ni)化膜材料。络合基膜的化学还原过程是实现尼龙6表面金属化的关键,受还原剂浓度、还原时间、还原液温度、以及金属盐浓度等因素的影响。通过变化这些因素,可以获得不同表面电阻率的尼龙6表面金属(Ni)化膜材料。
1.3 性能测试
尼龙6表面金属(Ni)化膜材料的表面电阻率用部标JB—903—66同轴三电极系统电阻仪测得。膜材料表面元素组成及形貌分析用PHI—5300X射线光电子能谱仪和KYKY—1000B扫描电子显微镜测得cX射线衍射分析使用APDl0型X射线衍射仪测定。膜表面电热温度用DM—801A数字测温表测得。
2 结果与讨论
2.1 金属盐浓度对表面电阻率的影响
NiCl2浓度分别为0.5—2.7mmol/gpolymer的NiCl2/尼龙6络合基膜分别在40℃的0.4wt%NaBH4水溶液中还原7min后,得到不同表面电阻率的金属(Ni)化膜、其结果见图l所示。在同一条件下还原,如果NiCl2/尼龙6络合基膜中浓度越大,则金属化膜材料的表面电阻率就越小。这是因为在还原剂浓度足够大的情况下,络合基膜中的Ni2+的浓度越大,基膜表面Ni”分布就密而均匀,被还原出的Ni颗粒就越多,最终表现为表面金属(Ni)化膜材料的表面电阻率下降,导电性增强。
2.2 还原条件对表面电阻率的影响
NiCl2/尼龙6络合基膜表面的Ni2+容易被强还原剂NaBH4还原成金属镍,其表面电阻率的大小除了与金属盐浓度有关外,还与还原条件有关。一般说来,随着还原时间的延长、还原浴温度的升高、以及还原剂浓度的加大,都将使尼龙6表面金属(Ni)化膜材料的表面电阻率降低,导电性增强。
图2为不同金属盐浓度及在40℃、0.4wt%NaBH4水溶液的还原条件下,还原时间的变化对尼龙6表面金属(Ni)化膜材料电阻率影响的实验结果。结果表明,增加还原时间会使膜材料的表面电阻率下降,当还原时间超过6min后,对表面电阻率影响不大,同一还原时间下,络合基膜中NiCl2浓度大的,表面电阻率小。
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NiCl2/尼龙6络合基膜与NaBH4水溶液的氧化还原反应是一个固液界面反应过程,可以用下式表示,即
结合基膜中金属离子在水的极性作用下向膜表面扩散,很快被还原剂还原成Ni,粘附在尼龙6膜的表面。随着还原时间的延长,一方面有更多的Ni2+由里层向界面扩散;另一方面。也有更多的还原剂分子渗透到膜内层,使得Ni2+完全,或者几乎完全还原成Ni,并在尼龙6表面形成较为致密的金属化层,使膜材料的表面电阻率下降。当还原时间延长到某一值时。由于浓度梯度的原因,生成的产物向溶液中的迁移会阻碍还原剂分子向膜内层的渗透,致密金届化层也会阻碍Ni2+向界面扩散,氧化还原反应逐渐趋于动态平衡。膜表面电阻率基本趋于恒定值。
2.3 SEM分析
图3a为每克尼龙6含有1.68mmolNiCl2的络合基膜还原以后的尼龙6表面金属(Ni)化膜的扫描电子显微镜(SEM)观察的结果。由图可见,生成的镍呈颗粒状堆积在尼龙6表面。镍粒子的堆积密度取决于还原条件和络合基膜中NiCl2的浓度,最终表现为表面电阻率的差异。镍粒子堆积紧密的膜材料、表面电阻率小,堆积松散的表面电阻率大。
图3b为其断面形貌图。图中左边层为Ni层,厚度约为15—20μm,右边层也为Ni层,厚度只有5一10μm左右,中间层为尼龙6。这一结果说明在该条件下,生成的尼龙6表面镍化层仅只附着于尼龙6膜两面c有一面(基膜制备时,紧贴玻璃面)的金属化层比另一面的要厚一些。
2.4 ESCA分析
图4为每克尼龙6含有1.9mmolNiCl2的络合基膜还原以后的ESCA谱图。参照镍的ESCA标准谱图,图中镍的2P3/2态853.0eV结合能峰,和镍的2P1/2态870.4eV结合能峰,确定为单质镍。而虚线所示镍的另一种价态,尚不能确认。
用光电子能谱分析尼龙6表面金属(Ni)化膜的化学元素组成为:Bls3.29%;Nls2.74%;Ni2P3.52%;O1S34.15%;C1S56.30%。nextpage
2.5 X射线衍射分析和电发热性能
图5为尼龙6表面金属(Ni)化膜的X射线衍射图。2θ等于28为尼龙6的衍射峰,2θ为52.4°是Ni的衍射峰。
图6为尼龙6表面金属(Ni)化膜的电发热温度与通电时间的实验结果。在30V直流电压下,通电5min后,膜表面温度由17℃升到30℃,又经过35min后,膜表面温度稳定在40℃。
2.6 尼龙6表面镍化膜材料的导电模型
尼龙6材料本身是一种绝缘体。对于填充型导电高分子材料而言,绝缘体转变为导电体的急剧变化是由于绝缘体中导电性填料颗粒间形成一种网络[7]。尼龙6表面金属(Ni)化膜材料的电传导,则是由于镍颗粒堆积而形成导电链所致。即使镍颗粒是非紧密堆积的,但总有部分镍颗粒能够接触而形成链状导电通道,使尼龙6材料由绝缘体变成半导体或导体,其导电模型见图7所示。因此,络合基膜中NiCl2含量越大,还原反应进行得越完全,则膜表面生成的镍颗粒就越多。那么形成的导电网络越密,导电通道就越多,所获得的尼龙6表面金属(Ni)化膜材料的电阻率就越小,这点已被实验结果所证实。


