豪泽技术涂层公司是一家来自于荷兰的离子涂层专家，其开发的高功率脉冲增强磁控溅射技术（HIPIMS+），可生产出非常光滑、致密的涂层，而且没有缺陷。此外，HIPIMS+技术能调节残余应力从而得到更高的硬度，同时沉积速率与电弧离子镀技术相当。
应用HIPIMS+技术喷涂的刀具产品
在常规HIPIMS技术发展的初期即被明确为生产PVD硬质涂层的第三种方法（电弧离子镀和磁控溅射为前两种方法）。HIPIMS技术的优点是将电弧离子镀的高离子能量（导致良好的结合力和致密的涂层）与磁控溅射的优点（涂层非常光滑）相结合。
豪泽技术涂层公司发展的HIPIMS+技术将HIPIMS提升到了可产业化的水平，通过提高溅射过程的离子能量而获得更致密无缺陷的涂层，额外优点是沉积速度很快足以应用于产业化的涂层生产，另一优点是能更好地控制离子中不带电粒子比例。
HIPIMS和HIPIMS+技术均增加了附加的带有电弧保护的不间断恒压（CV）电源（豪泽专利技术）在标准偏压电源中。这种附加的CV电源可以集成到偏压电源中，当脉冲大电流到达工件时，偏压电源必须为工件提供必要的电压和电流，CV电源就可以在大电流冲击时保护偏压电源。
HIPIMS+技术从诞生伊始即可保证生成粗糙度很低的涂层，这是作为许多工具涂层和摩擦学涂层的一项重要特质，用HIPIMS+技术在样品上做的测试证明了可以生成一个非常光滑的涂层的承诺已成为现实。
HIPIMS+技术生产的涂层不仅仅是提升了涂层的光滑特征。用电弧离子镀技术为工具做涂层时涂层可达到的硬度受到了限制，因为在硬度上升的同时不能造成涂层内太多的残余应力，涂层硬度和导致剩余应力的关系已成为研究领域的重要课题。采用HIPIMS+技术可以实现调节残余应力同时保持高硬度。
采用HIPIMS+技术生产的涂层已在欧洲和亚洲的几家公司做了测试，在多种不同的工具上应用HIPIMS+都有更好的性能。对铣刀进行了测试，以电弧离子镀技术沉积TiAlN涂层的铣刀为基准与采用HIPIMS+技术沉积TiAlN的铣刀对比，采用HIPIMS+ 技术的可提高30%的性能。
HIPIMS+技术在工业领域相对而言是一项新技术，可以为精密工具工业的水平提升提供很大帮助。HIPIMS+技术沉积的TiAlN涂层（50:50）粗糙度至少比电弧离子镀技术沉积的涂层好10倍以上；HIPIMS+技术沉积的涂层残余应力可调、硬度更高。因此HIPIMS+技术沉积的涂层应用在刀具上可使刀具获得更长的切削距离且更少的侧面磨损。此外更重要的一点是HIPIMS+技术的沉积速度可以与电弧离子镀的高水平相当，使得这一技术具备了产业化生产的应用前景。
具备产业化生产的应用前景。
