交替抛光法，就是将几种抛光工艺相互配合交替进行的整个抛光工艺的总称。它常用于多组分合金及工艺上对抛光表面粗糙度要求高的抛光作业。例如，在电抛光某种合金制件时，有时会在制件表面形成一层严重妨碍电抛光继续进行的覆盖层，但还未达到工艺上对抛光表面粗糙度的要求。这就需要在电抛光过程中间，加入一道机械抛光，以及时除去电抛光过程中形成的覆盖层，然后再进行电抛光。这种“电抛光-机械抛光-电抛光”交替进行的整个抛光工艺，就是交替抛光工艺的一个实例。
交替抛光法，可交替一次，也可交替多次。也不限于两种抛光工艺进行交替，必要时，可交替使用多种抛光工艺进行抛光加工，直到抛光表面粗糙度达到工艺要求为止。应当指出，上述电抛光过程中抛光表面形成的覆盖层，不一定要用抛光作用很明显的机械抛光法除去，还可用其他似乎看不见具有抛光效果的更简单方法除去。化学浸洗法就是一个高效快速除膜法。例如，在用磷酸-硫酸-水混合电解液中，对板状钼制件进行电抛光时，制件表面会很快形成一层蓝紫色班盖层。该层随着电抛光过程的进行会快速增厚，使电解电流迅速减小。当电解电流减小到原调电流值的1/3~1/5或更小时，它就会基本稳定下来。这时电抛光过程几乎停止或丧失了。取出制件除去表面蓝紫色覆盖层后会看到，抛光表面的粗糙度还达不到工艺要求，尚需再抛光。但若不除去钼制件表面紫色橙盖层，是无法再进行电抛光的。去除这种紫色膜可用湿布团擦拭，也可用碱性（如氢氧化钠）稀水溶液浸洗数分钟除去。
