碲化锑靶材Sb2Te3碲化锗靶材GeTe磁控溅射靶材

 
 
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更新 2025-01-07 18:15
 

北京晶迈中科材料技术有限公司

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详细说明

科研实验专用碲化锑靶材Sb2Te3碲化锗靶材GeTe磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

碲化锑为温差电材料.碲化锑,周期表第VA,VIA族元素化合物半导体。

产品参数

中文名 碲化锑 分子式 Sb2Te3

分子量 626.32 熔点 620℃

密度 6.5g/cm3

产品介绍

碲化锗晶体可用作红外光发射和探测材料。周期表第W, 族元素化合物半导体。 离子性晶体。三角晶系面心结构,熔点724 C' 。为直接带隙半导体,采用熔化再结品法制备。

产品参数

中文名 碲化锗 化学式 GeTe

熔点 725℃ 密度 6.14g/ml


支持合金靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库



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