科研实验专用
中文名硼化锆分子式ZrB2
分子量112.846熔点3000℃
相对密度5.8g/cm3
陶瓷靶材采用常压烧结,气氛烧结,热等静压烧结等工艺,严格控制原料的纯度,成分及成型坯料额设计尺寸,坯料经过精密机械加工成靶材,可根据客户要求定制加工特殊掺杂比例靶材。
产品优势靶材纯度高,致密度高,成分均匀厂家直销
产品规格图片靶材，矩形靶材，圆柱靶材，台阶片靶材，管型靶材，根据客户的图纸定制
产品用途磁控溅射镀膜材料等
产品附件正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单
适用仪器各类型号磁控溅射设备
服务项目靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧
加工流程熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
厂家优势
厂家直销
收货后7日内可协商退换货
靶材种类齐全
支持合金靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！
本网站价格只做参考，期待您的垂询！
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
强烈建议陶瓷化合物靶材绑定背靶使用
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生裂靶情况，绑定背靶后，可以提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！
我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。
注意：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不会影响靶材的正常使用！
建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。