智能供气CVD 实验室小型CVD系统 真空管式炉

 
 
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更新 2025-01-06 14:18
 

郑州科探仪器设备有限公司

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详细说明

化学气相沉积系统 智能供气CVD 实验室小型CVD系统 真空管式炉


产品用途:

气体配比器主要用于气体流量测试,并按比例混合气体,为真空管式炉或手套箱营造特定要求的气氛环境.控制方式采用集成化模块控制 功能延伸性强 根据客户要求随意添加

该气体配比器可以外接3或多种气体,采用质子型流量计,气路管道采用316抛光管制作耐腐蚀性强.气路接头采用全不锈钢双卡套快速接头,方便连接且不易泄漏.

1.半导体制造行业中气体流量控制

2.各种真空镀膜设备

3.特种材料表面处理

4.气体燃烧控制

5.混和配气系统

6.泄漏探测系统

7.环境与分析设备

8.分析仪器的气体流量计量与控制

9.化工、石化、冶金、光纤熔炼等需要气体和控制的场所


技术资料;

产品型号

KT-C3Z

产品类型

高精度型/快速响应型/智能控制 触摸屏控制

可选量程

20sccm-10slm

产品精度

±1%F.S

重复精度

±0.2% F.S

线性

±1% F.S.

响应时间

≤4sec

工作温度范围

(5~45)°C

供电电源

~85-265VAC 50/60Hz

*功耗

40W

进气口压

≤0.6MPa

连接管道

φ4-6mm316不锈钢管道

截止阀类型

电磁阀

单向阀开启压力

0.02Mpa

压力显示量程

控制方式

7寸触摸屏智能调节

时间设定

0-99999

清洗功能

一键清洗

数据导出

程序控制

5段可编程序(时间-流量随意设定值)

压力显示

有(出气压力检测)

气体缓冲罐

流量累计

有(累计当前运行总流量)

可选进出气口接头形式

3MM 6MM 1/8mm 1/4mm双卡套接头

抗电磁干扰

外形尺寸

460210480

重量

18KG



人:李工
QQ:760625767


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