1.1主要用途
Cchip-0019型紫外光刻机主要用于常规微型器件、结构的微细加工及微流体结构、MEMS、双向可控硅、声表面波器件、大功率整流器及石英晶体谐振器等特种器件、结构的双面深度微细加工。此外，该设备还可作为相关实验设备广泛应用于高校及研究所开展微细加工工艺研究。
1.2主要特点
（1）结合**的CCD图像对准技术、采用紫外LED平行光照明及手动对准工件台的总体设计思路，结构新颖，整机性能优越，曝光操作直观、方便。
（2）掩模版取放倒置吸附、样片取放采用推拉式基准平板、真空吸附的方式，方便快捷，工作效率高。
（3）新颖的高精度、多自由度掩模-样片精密对准工件台结构设计，使掩模-样片的对准精度及速度得到极大提高。
| 序号 | 参数名称 | 数值以及说明 |
| 1 | 曝光面积 | 110mm×110mm |
| 2 | 曝光波长 | 365nm |
| 3 | 分辨力 | 0.8um |
| 4 | 对准精度 | ±0.5um |
| 5 | 掩模尺寸 | 3英寸、4英寸、5英寸 |
| 6 | 样片尺寸 | 2英寸、3英寸、4英寸，厚度0.1 mm—5 mm |
| 7 | 照明不均匀性 | 2% |
| 8 | 掩模相对于样片运动行程 | X:±5 mm Y:±5 mmq:±6° |
| 9 | 曝光光源 | 紫外LED，40mW |
| 10 | 曝光量设定 | 定时（***方式0.1～999.9任意设定） |
| 11 | **胶厚 | 350 |
| 12 | 光源平行性 | ≤1.2° |
| 13 | 双视场显微镜 | 0.5-4.5X |