设备简介：
立式管式炉采用炉管垂直放置、炉膛加热元件环形分布的结构设计，可应用于小型钢件的淬火、退火、回火热处理，以及立式CVD镀膜等。设备可在气氛状态、真空状态下运行，也可作为普通管式炉使用，适用于高校实验室及科研院所等单位。
设备特点：
1.采用高纯硅钼棒作为加热元件，加热元件均匀分布于炉膛周围，保证温度均匀性；
2.高纯度Al2O3纤维耐火保温材料，保温效果优越，有效地降低了设备使用功耗；
3.炉体采用双层风冷结构工艺，有助于降低壳体的表面温度；
4.采用智能PID模糊温度控制，7英寸触摸屏集中操控，可直观显示“时间-温度”曲线；
5.采用一体式水冷法兰，防止法兰过热损毁密封圈，充分保证设备密封性；
6.使用自主研发的电磁吊置脱扣技术，实现对物料的快速淬火处理。
服务支持：一年有限保修，提供终身支持